1 　裝置的工藝控制流程簡介 

    廢堿液濕式氧化處理裝置工藝控制流程如圖1所示, 廢堿液經(jīng)泵送入反應(yīng)器,與從反應(yīng)器底部進(jìn)入的空氣、蒸汽混合在一定的反應(yīng)溫度和反應(yīng)壓力下進(jìn)行濕式氧化反應(yīng), 反應(yīng)器的反應(yīng)物經(jīng)頂部的節(jié)流閥,實現(xiàn)絕熱閃蒸過程,將壓力降低,進(jìn)入冷卻塔進(jìn)行噴淋、冷凝等操作,冷卻塔排出液送入換熱器進(jìn)行換熱,換熱后的廢堿液一路經(jīng)泵打循環(huán)重新返回冷卻塔進(jìn)行噴淋操作,一路排出系統(tǒng)。 

    2 　系統(tǒng)硬件構(gòu)成 

    根據(jù)廢堿液濕式氧化處理裝置的工藝特點,該控制系統(tǒng)采用B&R 2010 系列模塊作為下位機,研華工控計算機作為上位機。 

    下位機功能模塊CP100 為CPU 模塊,AT610 為溫度檢測模塊,AI700 為模擬量輸入模塊,AO725 為模擬量輸出模塊, PS740 為電源模塊。每個模塊都有運行狀態(tài)及模塊接線盒狀態(tài)顯示功能,每個模塊都可帶電插拔。系統(tǒng)設(shè)置兩個電源模塊,使下位機硬件系統(tǒng)具有電源冗余功能。 

    整個系統(tǒng)采用二級分布式上、下位結(jié)構(gòu),上位機系統(tǒng)完成工藝流程顯示、控制回路、參數(shù)設(shè)置、數(shù)據(jù)報表打印、參數(shù)趨勢顯示、參數(shù)報警狀態(tài)顯示等功能。下位機由B&R 2010 系列可編程計算機控制器(簡稱PCC) 構(gòu)成。 

    3 系統(tǒng)軟件設(shè)計 

    根據(jù)工藝控制方案的要求,我們編制了系統(tǒng)控制軟件,它主要由上位機組態(tài)軟件和下位機控制軟件構(gòu)成。 

    3. 1 上位機組態(tài)軟件設(shè)計 

    上位機組態(tài)軟件的開發(fā)平臺選用CITECT 組態(tài)軟件,上位機組態(tài)軟件的結(jié)構(gòu)如圖3 所示。在組態(tài)軟件設(shè)計中,CITECT 組態(tài)軟件提供的強大功能,使操作畫面更貼切用戶,裝置工藝流程、設(shè)備運行狀態(tài)一目了然,提高用戶操作的安全性和可靠性。組態(tài)軟件的通信點數(shù)直接決定著組態(tài)軟件的價格,對于通信點數(shù)的數(shù)字型變量實行了軟壓縮和軟解壓縮技術(shù),有效提高組態(tài)軟件的性能價格比,降低工程造價。